ICS29.045
H80/84
团体标准
T/IAWBS015-2021
氧化镓单晶片X射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
TestmethodforfullwidthathalfmaximumofdoublecrystalX-rayrocking
curveofGa2O3singlecrystalsubstrate
2021-09-15发布 2021-09-22实施
中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟发布
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I目录
前 言............................................................................................................................................II
1范围.................................................................................................................................................1
2规范性引用文件.............................................................................................................................1
3术语和定义.....................................................................................................................................1
4检测原理.........................................................................................................................................1
4.1晶体X射线衍射原理.........................................................................................................1
4.2摇摆曲线测试原理..............................................................................................................2
4.3晶体摇摆曲线半高宽..........................................................................................................2
5仪器及校准.....................................................................................................................................2
5.1光路配置..............................................................................................................................2
5.2样品台..................................................................................................................................2
5.3仪器校准..............................................................................................................................3
6测试样品.........................................................................................................................................3
7干扰因素.........................................................................................................................................3
8测试环境.........................................................................................................................................3
9测试步骤.........................................................................................................................................3
10精密度...........................................................................................................................................4
11测试报告.......................................................................................................................................4
附录A..........................................................................................................................................5
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II前 言
本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则部分:标准化文件的结构和起草规则》的
规定起草,并根据该文件进行样式修改。
请注意本文件中的某些内容可能涉及专利,本文件的发布机构不承担识别这些专利的责
任。
本文件由中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟归口。
本文件起草单位:中关村天合宽禁带半导体技术创新联盟,北京邮电大学,北京镓族科
技有限公司
本文件主要起草人:李培刚、郭道友、吴忠亮、陈旭、唐为华。
本文件为首次制定。
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1氧化镓单晶片X射线双晶摇摆曲线半高宽测试方法
1范围
本文件规定了利用双晶X射线衍射仪测试氧化镓单晶片摇摆曲线及其半高宽的方法。
本文件适用于熔体法及其他方法生长的和定向切割晶锭制备的氧化镓单晶片,对前述单
晶片进行化学或机械抛光后的样品同样适用于此方法。
本文件适用于β相氧化镓单晶。
2规范性引用文件
下列文件中的内容通过本文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日
期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包
括所有的修改单)适用于本文件。
GB/T14264半导体材料术语
3术语和定义
GB/T14264界定的术语和定义适用于本文件。
4检测原理
4.1晶体X射线衍射原理
单晶的原子以三维周期性结构排列,可以看作原子排列于空间垂直距离为d的一系列平
行平面所形成。当一束平行的单色X射线射入该平面上,且X射线照射在相邻平面之间的
光程差为其波长的整数倍即n倍时,经相邻平面原子散射后的X射线相互干渉,就会产生
衍射(反射)。当入射光束与反射平面间的夹角θ、X射线波长λ、晶面间距d及衍射级数n
完全满足布拉格方程2dsinθ=nλ时,X射线衍射光束强度将达到最大值,此时的θ称作布
拉格角,记作θB,如图1所示。
λ入射X射线 出射X射线dθB
图1X射线衍射原理图
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24.2摇摆曲线测试原理
X射线衍射摇摆曲线用来表征平行的X射线入射束被样品中某一特定晶面反射后其衍
射束的发散程度。在测试时,探测器置于待测晶面的2θB位置,入射束在θB附近进行扫描,
此时记录下来的以入射角度为横坐标,以衍射强度为纵坐标的曲线称为摇摆曲线。
双晶X射线衍射仪是由单色器轴、样品轴和分析轴组成的三轴衍射仪,其中样品轴由
三个变量组成:ω是入射线与样品表面的夹角;χ用于调节样品的俯仰,对样品的偏向进行
补偿;φ是绕样品法线旋转的一个圆,通过优化φ,用开放式探测器进行ω扫描得到最佳的摇
摆曲线。多晶及多
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