GB-T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范

ICS31.030 L90 中华人民共和国国家标准 GB/T29844—2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 Specificationsformetrologypatternsforthe evaluationofadvancedphotolithgraphy 2013-11-12发布 2014-04-15实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局中国国家标准化管理委员会发布中华人民共和国国家标准用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范 GB/T29844—2013 * 中国标准出版社出版发行北京市朝阳区和平里西街甲2号(100013) 北京市西城区三里河北街16号(100045) 网址:www.gb168.cn 服务热线:010-51780168 010-68522006 2014年1月第一版 * 书号:155066·1-47943 版权专有侵权必究前言本标准按照GB/T1.1—2009给出的规则起草。请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别这些专利的责任。本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。本标准起草单位:上海华虹NEC电子有限公司。本标准主要起草人:王雷、伍强、朱骏、陈宝钦。 ⅠGB/T29844—2013

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本文档由人生无常于 2025-02-21 14:17:28上传分享