GB-T 43493.2-2023 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第2部分：缺陷的光学检测方法

ICS 31.080.99 CCS L 90 GB 中华人民共和国国家标准 GB/T43493.2—2023/IEC 63068-2:2019 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法 Semiconductor device-Non-destructive recognition criteria of defects in silicon carbide homoepitaxial wafer for power devicesPart 2:Test method for defects using optical inspection (IEC63068-2:2019.IDT) 2023-12-28发布 2024-07-01实施国家市场监督管理总局发布国家标准化管理委员会 GB/T43493.2—2023/IEC63068-2:2019 目次前言引言 1 范围 2 规范性引用文件 3 术语和定义光学检测方法 4.1 通则 4.2 原理 4.3 测试需求 4.4 参数设置 4.5 测试步骤 4.6 评价 4.7 精密度 4.8 测试报告附录A（资料性）缺陷的光学检测图像 A.1 概述 A.2 微管 A.3 TSD A.4 TED A.5 BPD A.6 划痕痕迹 A.7 堆垛层错 11 A.8 延伸堆垛层错 12 A.9 复合堆垛层错 A.10 多型包裹体 14 A.11 颗粒包裹体 A.12 台阶聚集簇 16 参考文献

GB-T 43493.2-2023 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法

文档预览

中文文档 23 页 50 下载 1000 浏览 0 评论 309 收藏 3.0分

赞助2.5元下载(无需注册)

温馨提示：本文档共23页，可预览 3 页，如浏览全部内容或当前文档出现乱码,可开通会员下载原始文档

GB-T 43493.2-2023 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法第 1 页

GB-T 43493.2-2023 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法第 2 页

GB-T 43493.2-2023 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法第 3 页

下载文档到电脑，方便使用

赞助2.5元下载

本文档由人生无常于 2024-04-06 13:09:59上传分享

GB-T 43493.2-2023 半导体器件 功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据 第2部分：缺陷的光学检测方法

GB-T 43493.2-2023 半导体器件功率器件用碳化硅同质外延片缺陷的无损检测识别判据第2部分：缺陷的光学检测方法